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簡要描述：光學實驗平臺應用領域：適合于現(xiàn)代光學、物理力學、激光電子、光通訊試驗及儀器搭載等領域應用。實驗平臺采用雙層隔振裝置、隔振效果好光學平臺采用優(yōu)質(zhì)含磁不銹鋼材料平臺工作臺帶電源插座和漏電保護器下面支撐桌有較大空間放置實驗器件。
產(chǎn)品型號：廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時間：2024-07-11訪 問 量：3269詳細介紹
光學實驗平臺應用領域：適合于現(xiàn)代光學、物理力學、激光電子、光通訊試驗及儀器搭載等領域應用。
光學平臺使用時注意事項：
1、 請勿用酸性液體清洗本產(chǎn)品,以免破壞產(chǎn)品表面質(zhì)量。
2、 請勿將本產(chǎn)品放置在高溫、潮濕及高強度振源處。
3、 請勿用水沖洗本產(chǎn)品。
4、 本產(chǎn)品長時間處于一種狀態(tài)下,請用水平儀調(diào)整臺面水平。
5、 工作臺面上擱置的任何設備或工具,都必須小心輕放,盡量不要相對磨擦,以避免損傷工作臺面,降低使用精度。
6、 工作臺面安裝孔,是用于固定設備的M6螺孔,使用時避免用力過大,影響工作臺精度。
光學實驗平臺外形尺寸
1200×800×120mm（提供支撐桌）
1500×1000×140mm（提供支撐桌）
1800×1000×140mm（提供支撐桌）
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